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      高純含氟電子氣體國產化成功

      2020-06-19
      高純含氟電子氣體國產化成功

        助力我國極大規模集成電路行業
        中化新網訊 極大規模集成電路行業所需的高純度氣體有了新著落?!拔覀兂袚膰铱萍贾卮髮m棥畼O大規模集成電路制造裝備與成套工藝’中的‘高純四氟化碳和六氟化硫研發與中試’子項目,通過了國家重大專項項目組的現場測試與評審。相關產品已提交客戶使用,市場應用效果良好?!?月11日,黎明化工研究設計院有限責任公司首席技術官牛學坤表示。
        經過現場測試和專家評審,專家組認為,黎明院生產的高純四氟化碳和六氟化硫產品滿足國家重大專項/課題任務書研究內容和考核指標規定的技術要求?!绊椖康尿炇胀瓿?,標志著黎明院開發的高純度含氟電子氣體四氟化碳和六氟化硫產品,能夠滿足極大規模集成電路行業所需的高純度氣體需求,也標志著極大規模集成電路行業用高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體實現了國產化?!?國家重大專項項目組專項辦公室責任專家馬振宇教授表示。
        牛學坤介紹說,高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規模集成電路行業必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規模集成電路技術的提升,芯片制程向14納米甚至7納米的邁進,其對電子氣體的純度要求越來越高。為此,黎明院借助國家科技重大專項平臺,突破產物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關鍵技術,攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質的純化、分析等技術難題,制備出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分雜質含量在0.1ppm以內。在研發過程中,黎明院共申報專利9項,發表研究論文6篇,編制國標1項、企標2項,并建成了標準化潔凈間。
        “項目的研發成功,實現了含氟氣體由工業級向高純級、多品種等高性能、高附加值產品的轉型升級以及氟化物產品的結構調整,助推了黎明院高質量發展?!迸W坤表示。

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        據了解,2015年,黎明院高純六氟化硫已實現了1000噸/年生產供貨能力;2018年,電子級四氟化碳產品建成了中試裝置,并規劃建設1000噸/年工業化裝置。
        “高純度四氟化碳和六氟化硫已在國內集成電路企業批量使用,實現了部分進口替代。下一步,黎明院將進一步加快科技創新及產業化發展步伐,開發極大規模集成電路行業所必須的其他電子特氣,為國內極大規模集成電路行業的穩定、健康發展提供堅實的基礎?!?牛學坤說。


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