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      韓企成功量產高純度刻蝕氣體,進一步降低對日依賴

      2020-06-19
      韓企成功量產高純度刻蝕氣體,進一步降低對日依賴

      據韓媒報道,全球領先的電子特氣供應商SK Materials 6月17日宣布已開始批量生產超高純度(99.999%)氟化氫(HF)氣體,實現了本地化生產,進一步降低了對日本的依賴。高純度氟化氫氣體可用于半導體制造過程中從硅片上去除異物的過程中,是一種由于工藝改進而需求迅速增長的產品。
      2019年7月,日本突然對韓國出口到韓國的高純度氟化氫(蝕刻氣體)、氟化聚酰亞胺和EUV光刻膠等三種電子材料實施嚴格的出口管制,將直接影響韓國電子產業的未來發展。不僅如此,日本還把韓國踢出貿易優惠待遇國的名單之外。面對封鎖,韓國立即展開動作,一方面尋找日本之外的供貨來源,另一方面也在政府支持下積極的推動國產化生產。2019年年底,SK Materials成功開發出基于三氟化氮(NF3)技術的氣態氟化氫原型。之后,在慶北的靈州工廠建造了15噸規模的生產設施,以繼續推動本地化。在此過程中,一直與客戶進行測試,直到本月開始批量生產。SK Materials的目標是到2023年將本地化率提高到70%。

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      此外,SK Materials也在研發推動包括光刻膠和硬掩模板在內的半導體原材料本地化生產,將于2021年完成了生產設施,目標是從2022年起每年生產50,000加侖的光刻膠。目前,SK Materials正在開發用于氟化氬(ArF)的光刻膠。在行業中,具有再加工技能的SK Materials有望利用Kumho石化公司的專利來批量生產用于極紫外(EUV)的下一代光刻膠。


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